电子束光刻中的等离子体辅助填充

应用领域：先进制造与自动化

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国家/地区

新加坡

行业领域

先进制造与自动化

简介

电子束光刻（EBL）是一种无掩模光刻工具，由于其快速成型和高分辨率图案化能力而广泛用于纳米制造。然而，由于通过扫描聚焦电子束扫描所有指定像素的构图过程，采用EBL的构图工艺通常具有低吞吐量。该技术引入了等离子体处理，以提高EBL工艺中闭合多边形结构的图案化吞吐量，而不影响图案化结构的分辨率，从而使EBL的图案化效率提高50倍以上。该技术对于电子束光刻（EBL）和聚焦离子束光刻术（FIB）等束光刻工具制造商开发用于大批量制造设备的下一代光刻系统具有潜在的实用价值。此外，该技术还可用于半导体和纳米光子行业，用于在制造过程中快速成型光掩模和光致抗蚀剂，这有助于提高光掩模制造的制造成本。

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