新型高选择性8-羟基喹啉类锗印迹聚合物杂化制备技术研究

应用领域：资源与环境

我有意向

国家/地区

中国

行业领域

资源与环境

简介

本项目特色与创新点主要体现在以下方面：1）提高了MIPs对Ge4+的识别精度和吸附特性。采用杂化印迹新技术，显著提高印迹聚合物MIPs对目标金属Ge4+的识别精度及结合/释放速度，提高了模板分子的洗脱速度和快速识别性能。2）拓展了锗吸附对pH的用范围。通过控制聚合物合成工艺参数，使MIPs在较宽的pH范围内，对Ge4+均具有较强的吸附作用。本项目申请并授权发明专利1件，公开发表核心期刊4篇，其中EI收录1篇、核心期刊收录3篇。

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