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STE EB71系统适用于高真空和超高真空环境下的电子束薄膜蒸发。系统设计允许通过调节蒸发器与晶圆之间的距离来优化材料消耗。特殊的“掩模”技术可确保蒸发材料的高均匀性。主要优势:1.超高真空下的高质量薄膜沉积;2.通过调节蒸发到晶圆的距离来优化材料消耗;3.由于采用特殊的“掩模”技术,厚度均匀性得到改善。