STE RIE200反应离子刻蚀系统

应用领域：电子信息

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国家/地区

俄罗斯

行业领域

电子信息

简介

基于STE ICP200平台的STE RIE200系统，适用于使用氯和氟化学的RIE工艺。该平台实现了半导体、电介质和金属膜的受控RIE的所有现代功能。主要优势：1.蚀刻/沉积均匀度为晶圆的±2%；2.优化的供气系统；3.按配方进行工艺流程；4.安装“穿过墙壁”；5.自动晶片装载；6.盒式晶片装载能力

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