STE RIE200 反应离子刻蚀系统

应用领域：先进制造与自动化

我有意向

国家/地区

俄罗斯

行业领域

先进制造与自动化

简介

基于 STE ICP200 平台的 STE RIE200 系统，适用于使用氯和氟化学的 RIE 工艺。该平台实现了半导体、电介质和金属膜的受控 RIE 的所有现代功能。主要优势：1.蚀刻/沉积均匀度为晶圆的±2%；2.优化的供气系统；3.按配方进行工艺流程；4.安装“穿过墙壁”；5.自动晶片装载；6.盒式晶片装载能力

资源&服务 \| 科技服务云超市
	首页 > 资源&服务 > 找技术 >详情

资源&服务 |