STE ICP200E电容和电感放电相结合的等离子化学蚀刻系统

应用领域：先进制造与自动化

我有意向

国家/地区

俄罗斯

行业领域

先进制造与自动化

简介

STE ICP200E 系统旨在利用电容和电感放电组合等离子体中的氟或氯化学物质进行等离子化学蚀刻工艺。主要优势：1.蚀刻/沉积均匀度为晶圆的±2%；2.优化的供气系统；3.按配方进行工艺流程；4.安装“穿过墙壁”；5.自动晶片装载；6.盒式晶片装载能力。

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