资源&服务 |科技服务云超市 |
|
 |
首页 > 资源&服务 > 找技术 >详情 |
-
中文
/ -
ENG
/ -
PYC
/
中文
/ENG
/PYC
该技术的目标用户是基于锗的MEMS和光电器件制造商，这些制造商需要CMOS兼容的制造流程，以在锗衬底上生产具有抗反射性能的微型结构。技术所有者有兴趣获得该工艺的许可，或与处理CMOS和光子学相关工艺的铸造厂进行研究合作。
中文
/ENG
/PYC
商务合作
