通过高级无掩模蚀刻的晶片级亚波长黑硅

应用领域：新材料

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国家/地区

新加坡

行业领域

新材料

简介

黑硅（b-Si）是一种有趣的光电仿生结构，因为它在宽波长和入射角范围内具有极低的反射率。这项技术提供了一种原始、高效的技术，用于生产具有超低光反射率的晶圆级（6-12英寸）亚波长b-Si。由于锗-X（X=金属）合金薄膜用作自掩模层，因此制造工艺成本低且与CMOS兼容。

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