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一家德国大学初创公司开发了一种用于低压等离子体过程(例如CVD、PVD)的创新测量探头。这些表面活化等离子体工艺的问题是,它们必须在难以接近的真空室/反应器中进行。这使得对这些过程的适当监控具有挑战性。目前,大多数过程参数通过安装在反应器壁上的传感器进行监测,该传感器仅位于实际等离子体过程的外围,因此精度较低。拟议的探头设计能够实时准确地现场测量最相关的工艺参数。它可以在反应器内灵活定位,而不影响过程。他们的技术在过去几年中得到了广泛的测试和微调,现在已经准备好用于工业过程。
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